等离子纳米抛光与传统抛光那是有很大的区别。等离子抛光技术最表象的是采用的是机台批量性全自动抛光，而传统抛光采用的是人工用手磨机火三角拉丝机一个一个进行抛光。两者很大的区别如下：

1、等离子体抛光：效率高，抛出产品质量高；传统手工抛光：效率低，抛出产品质量不一致。高技术大师，抛出的质量优于中低技术的人。

等离子体抛光比传统的手工抛光有很多优点，不一一列出。

等离子抛光是工件与抛光液中通电脱离的金属离子吸附在工件表面，工件凸起处电流冲击高而去除快，电流流动，凹凸不断变化，粗糙表面逐渐被整平。

纳米抛光被称为等离子体抛光。

等离子体纳米抛光是一种新型的金属表面处理工艺，只与工件表面的分子层和等离子体发生反应，原子间距一般为0.1-0.3纳米处理深度为0.3-4.5纳米.抛光材料的表面粗糙度为1MM因此，等离子纳米化学活化工件表面去除表面分子污染层。

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