企业简介 企业文化 团队风采 企业展示 荣誉资质 发展历程 PLNP技术介绍
PLNP 是“Plasma liquid nano polishing”即“等离子液体纳米抛光”的英文缩写,PLNP技术属于纳米抛光。
“PLNP”已由中唯精密工业有限公司向知识产权局提交商标申请,并被受理。
PLNP技术是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应,分子中原子一般间距为0.1-0.3nm,处理深度为0.3-1.5nm。抛光物的表面粗糙度在20nm-1mm范围内,因此等离子液体纳米抛光处理可以化学活化工件表面,去除表面分子污染层。等离子也称为物质的第四态,是一种电磁气态放电现象,使气态粒子部分电离,这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下,抛光剂水溶,但是在高温高压下,电子会脱离原子核而跑出来,原子核就形成了一个带正电的离子,当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态,等离子态能量很大,当这些等离子和要抛光的物体摩擦时,顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。
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