在PLNP纳米抛光过程中，可以影响材料去除速度的因素很多，包括电压，抛光液的成分、温度、浓度、流速、流动方向，零件的下潜深度、空间方位等；此外零件的材质、形状也会对去除速度有一定影响。根据前面的分析电压影响电子冲击到工件表面时所具有的能量，同时还会影响电子在放电通道中的碰撞电离系数，即单位时间冲击到工件表面的数量，所以电压是影响去除速度的一个重要因素，如果电压小于气层的最小击穿电压，电解质等离子抛光就不会发生，但是电压也不宜过高，因为要保证以水蒸汽为主的气层可以击穿，电压就必须在150V以上，由于工件与抛光液之间是被一个并不十分稳定的气层隔开，在这样高的电压下，气层出现很小的变化就可能导致电流的急剧升高，在这种情况下如果继续升高电压，给电气控制所带来的难度和电气元件负荷将呈几何倍数增加，而且去除速度是影响抛光后工件表面质量的一个重要因素，但却不是决定因素，去除速度快不代表抛光一定时间后工件表面的粗糙度值就会更低，因此通过实验对于一般材质的工件，电压控制在250-400V之间。除电压外最常遇到的，也是对材料去除速度影响更大的因素就是抛光液的温度，浓度以及工件在抛光液中的下潜深度。