化学抛光是利用材料表面微观凸起的部分在化学介质中优先溶解而得到平滑的表面。化学抛光的主要优点是不需要特殊夹具和直流电源设备，操作简单、节省能源，并且不受工件形状尺寸限制，抛光的直接成本相对较低。其缺点是污染问题尤其严重，处理抛光过程中产生的废液还会提高成本，抛光的效果和效率一般，化学抛光得到的工件其表面粗糙度值可以达到Ra=0.5-10μm。

电解抛光也叫电化学抛光，是利用阳极在电解池中所产生的电化学溶解现象，使阳极上的微观凸起发生选择性优先溶解以形成平滑表面的加工方法。电解抛光的加工方式与电镀类似，不同的是被加工的工件作为阳极。电解抛光通过同时进行的两个相互矛盾的过程（金属表面氧化膜的生成和溶解），使工件表面粗糙度值下降、光亮度升高，并形成一定金属光泽]。从本质上说电解抛光和化学抛光都是利用宏观或者微观上凸起的部分较凹陷的部分优先溶解实现抛光，两种方法都需要使用化学介质，受抛光工件形状的限制都很小，可以解决机械抛光难以抛光形状复杂工件的问题；不同的是电解抛光需要特殊夹具和直流电源设备，但是却可以使工件表面达到更低的粗糙度值。通过电解抛光可以获得粗糙度值Ra<0.5μm的表面。

电解抛光后的工件表面粗糙度主要由抛光前的表面质量和粗糙度、温度、抛光时间、电流密度所控制，如果不能很好的控制后三种因素的组合，会产生低反射或缎状的表面。通常采用提高温度、延长时间、增加电流密度的方法获得光洁表面。电解抛光中，电流密度和电压是密切相关的，电压升高，电流密度也会随之增大，但是这一现象只会持续到一个临界点，在这一点，电流密度将会急剧下降。超过这一点之后，电压和电流密度又稳步同时增长，电解抛光只有在电流密度高于临界点时才会发生，低于临界点则出现腐蚀。通常电解抛光使用的直流电流密度约为5.5~55.5A/m2。

化学抛光和电解抛光都是工业上应用最为广泛的抛光方法，但同时这两种抛光方法都存在一个很大的问题，它们使用的化学介质常常是浓度较高的酸性或者碱性的溶液，例如，用化学抛光处理不锈钢使用的化学介质常常含有王水、硫酸、磷酸、醋酸、过氧化氢，用电解抛光处理不锈钢时常使用的化学介质含有磷酸、硫酸、三氧化铬。这些化学介质很容易产生有毒性的气体，危害抛光工人的健康，抛光之后产生的废液也往往含有毒性，难于处理，随着人们对环境问题的重视程度越来越高，这两种抛光方法所引起的污染问题，也越来越引起人们的关注，污染问题在很大程度上限制了这两种抛光方法的进一步发展。而且用这些化学介质配制的抛光液使用寿命都不长，校正和再生困难，这也极大地提高了这两种抛光方法的附加成本。