企业简介 企业文化 团队风采 企业展示 荣誉资质 发展历程 PLNP技术介绍
(1)研究PLNP等离子抛光能实现微观整平的原因,从化学反应和气体放电两个方面讨论抛光液成分对抛光的影响;通过实验和分析得到PLNP等离子抛光中的伏安特性曲线,以此为依据研究工件潜入抛光液的最合理方式;采用扫描电镜、能谱分析仪等仪器研究抛光前后试件的外形尺寸、粗糙度、显微硬度、微观形貌、表面化学成分、耐腐蚀性等表面状态的变化,揭示并验证PLNP等离子抛光的作用机制。
(2)基于PLNP等离子抛光的材料去除机理,推导材料去除速度同抛光过程中的电流密度的关系,并通过实验进行验证。研究电压,抛光液浓度、温度以及工件在抛光液中的下潜深度对材料去除速度的影响规律。根据PLNP等离子抛光过程中决定表面粗糙度值下降速度的因素,建立表面粗糙度随抛光时间变化的数学模型,使用Origin8.0软件对实验得到的不同抛光时间的表面粗糙度值与数学模型进行非线性拟合,对数学模型进行修正和验证。
(3)以抛光后试件表面粗糙度值和抛光过程中的电流密度为实验指标,进行正交实验,确定各因素影响指标的主次顺序和更佳的工艺参数组合。依据硫酸铵抛光液的浓度低于2.5wt%之后抛光过程中的电流密度会明显下降的现象,提出两种确定硫酸铵抛光液浓度的方法。研究特殊形状工件的PLNP等离子抛光工艺和方法。
(4)设计PLNP离子抛光设备,并使用该设备加工多种材质的工件,验证PLNP等离子抛光方法的可行性,为工业化应用提供依据。
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